目前,負(fù)責(zé)多項(xiàng)預(yù)先研究和基金項(xiàng)目,主要情況如下:
1.負(fù)責(zé)先進(jìn)制造技術(shù)項(xiàng)目“復(fù)雜型面原子層沉積技術(shù)”,利用原子層沉積技術(shù)適合在復(fù)雜表面和深孔內(nèi)鍍膜的優(yōu)勢(shì),開展大長(zhǎng)徑比的管狀基底內(nèi)表面鍍膜技術(shù)研究;
2.負(fù)責(zé)共性技術(shù)基金項(xiàng)目“導(dǎo)模共振濾光片設(shè)計(jì)與制備技術(shù)研究”,結(jié)合薄膜光學(xué)元件、導(dǎo)波光學(xué)元件和衍射光學(xué)元件的優(yōu)點(diǎn),研究一種新型的光學(xué)薄膜器件,可以設(shè)計(jì)制作高反射、高透射以及窄帶濾波的光學(xué)元件,以及高效、低能耗的開關(guān)元件;
3.目前作為課題負(fù)責(zé)人之一和報(bào)告主要編寫人,正在編寫973項(xiàng)目“高溫抗氧化涂層的復(fù)合表面制造基礎(chǔ)理論與方法”綜合論證報(bào)告,計(jì)劃于2014年立項(xiàng)。
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